三星电子计划在1nm级制程节点实现High NA EUV商业应用
三星电子晶圆代工工艺开发团队朴昌民表示，对于2nm的SF2和1.4nm的SF1.4两个近期节点，High NA EUV光刻图案化技术仍不成熟。更高的图案化分辨率将在1nm级成为刚需，因此三星晶圆代工正以此为目标与合作伙伴联合研发。考虑到三星晶圆代工此前将2029年设定为SF1.4的量产时点并计划在2030年推出改进型SF1.4+，其1nm节点最快也要到2030年才会推出。（产联社）
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