SK海力士推进EUV技术，开始引入新材料PSM
SK海力士正致力于推进极紫外光刻（EUV）技术，以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径（High-NA）EUV设备，并于2026年全面启动相关技术的研发。据悉，该公司已全面开始引入PSM，以提升EUV光刻性能。（产联社）
特别声明：产联社摘录或转载的属于第三方的信息，目的在于传递更多信息而非盈利，同时并不代表赞成其观点或证实其描述，内容仅供参考。转载信息版权归原媒体及作者所有，若有侵权，请联系我们删除。如其他媒体、网站或个人擅自转载使用，请自负版权等法律责任。
27
9
分享
