传中国国产DUV光刻机已量产，全球芯片股遭重挫

摘要：ASML盘中一度跌8.3%；日经225跌4%；KOSPI跌7.6%，SK海力士跌30%创历史最大跌幅。

产联社编译

7月27日，据彭博社、路透社及The Information报道，一家总部位于上海、具有国资背景的中国企业已开始量产浸没式深紫外（DUV）光刻机，并计划向中芯国际、华虹半导体、长鑫存储等国内晶圆厂交付设备。近两日，市场担忧中国半导体设备国产化取得突破，冲击全球光刻设备市场竞争格局，带动全球半导体板块大幅下跌。

报道称，该企业已组建由上海宇量昇科技等国内企业技术人员组成的研发团队，计划今年生产约5台DUV光刻机，2027年产量提升至约20台，目前仍处于量产初期阶段。

受消息影响，全球光刻设备龙头阿斯麦（ASML）股价7月27日盘中一度下跌8.3%，跌至6月初以来最低水平。与此同时，荷兰ASM国际、荷兰贝西半导体，美国应用材料公司和美国泛林集团等半导体设备企业股价也同步大幅走低。

市场抛售情绪随后蔓延至亚洲股市。7月28日，日本日经225指数盘中一度下跌4%，韩国KOSPI指数一度跌7.6%，均创下近3个月来新低。半导体板块成为重灾区，东京威力科创、铠侠、三星电子和SK海力士等个股领跌，其中SK海力士盘中一度下跌30%，创历史最大盘中跌幅，铠侠一度跌18%，创去年11月以来最大跌幅。

目前，阿斯麦仍是全球唯一能够量产极紫外（EUV）光刻机的厂商，其深紫外（DUV）光刻机也是成熟制程芯片制造的核心设备。受美国出口管制影响，阿斯麦无法向中国出口EUV光刻机，对部分先进DUV设备出口也受到限制。尽管如此，中国仍是阿斯麦的重要市场。

市场认为，若中国本土DUV设备实现持续量产，将进一步推动国内半导体设备国产替代，并对国际设备厂商在成熟制程市场的份额形成挑战。

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